අර්ධ සන්නායක සඳහා අධි-සංශුද්ධතා සමස්ථානික මිනිරන්

Semixlab ඉහළ සංශුද්ධතාවය සමස්ථානික මිනිරන්, එහි ඉහළ සංශුද්ධතාවය, සියුම් ධාන්‍ය ව්‍යුහය, ඒකාකාර ඝනත්වය, තාප කම්පන ප්‍රතිරෝධය සහ විශිෂ්ට යන්ත්‍රෝපකරණ හැකියාව නිසා, අර්ධ සන්නායක කර්මාන්තයේ බහුලව භාවිතා වේ. පහත දැක්වෙන්නේ ප්‍රධාන නිමි භාණ්ඩ සහ තීරණාත්මක ක්‍රියාවලීන්හි ඒවායේ අනුරූප භූමිකාවන් ය:

අර්ධ සන්නායක යෙදුම් සඳහා සමස්ථානික මිනිරන්

1. MOCVD (ලෝහ-කාබනික රසායනික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීම) තුළ

MOCVD යනු GaN, GaAs සහ SiC වල එපිටැක්සියල් ස්ථර පිරිසැකසුම් කිරීම සඳහා වන මූලික ක්‍රියාවලියකි. සමස්ථානික මිනිරන් බහුලව භාවිතා වන්නේ නිෂ්පාදනය සඳහා ය:

● ප්‍රතිග්‍රාහක: ප්‍රතික්‍රියාකාරකය තුළ වේෆර් රඳවා තබා භ්‍රමණය කරන වේෆර් වාහක ලෙස සේවය කරයි. ඒවා ඒකාකාර තාප හුවමාරුවක් සපයන අතර වේෆර් මතුපිට හරහා ස්ථාවර එපිටැක්සියල් වර්ධනය සහතික කරයි. රසායනික ප්‍රතිරෝධය වැඩි දියුණු කිරීම සහ ආයු කාලය දීර්ඝ කිරීම සඳහා සාමාන්‍යයෙන් CVD SiC හෝ TaC ආලේප කර ඇත.

● වේෆර් වාහක / මිනිරන් බෝට්ටු: එකවර වේෆර් කිහිපයක් පැටවීමට භාවිතා කරයි. වේෆර් පැතලි බව පවත්වා ගැනීමට සහ දූෂණය වළක්වා ගැනීමට ඒවාට නිරවද්‍ය යන්ත්‍රෝපකරණ අවශ්‍ය වේ.

● තාපක මූලද්‍රව්‍ය: ග්‍රැෆයිට් හීටර් උසස් තත්ත්වයේ එපිටැක්සි සඳහා අත්‍යවශ්‍ය ස්ථායී සහ ඒකාකාර තාප ක්ෂේත්‍ර සපයයි.

ප්‍රධාන කාර්යභාරය: සමස්ථානික මිනිරන් උෂ්ණත්ව ඒකාකාරිත්වය, රසායනික ස්ථායිතාව සහ දිගු සේවා කාලය සහතික කරයි, එය එපිටැක්සියල් පටල ගුණාත්මක භාවයට සෘජුවම බලපායි.

2. ඇනීලිං සහ විසරණ ඌෂ්මකවල

මාත්‍රක විසරණය, ඔක්සිකරණය සහ ඇනීලිං වැනි ඉහළ උෂ්ණත්ව තාප සැකසුම් පියවර, සමස්ථානික ග්‍රැෆයිට් සංරචක මත දැඩි ලෙස රඳා පවතී, ඒවාට ඇතුළත් වන්නේ:

● විසරණ උදුන බෝට්ටු: ඉහළ උෂ්ණත්ව ඇනීලිං සහ මාත්‍රණ විසරණ ක්‍රියාවලීන්හිදී වේෆර් රඳවා තබා ගන්න. ග්‍රැෆයිට් විශිෂ්ට තාප ස්ථායිතාවයක් සහ නැවත නැවත තාප චක්‍රීකරණය යටතේ අවම විරූපණයක් සපයයි.

● ලයිනර් සහ පරිවාරක සංරචක: ග්‍රැෆයිට් ලයිනර් සහ පලිහ මගින් උදුන කුටි දූෂණයෙන් ආරක්ෂා කරන අතර උෂ්ණත්ව ඒකාකාරිත්වය වැඩි දියුණු කරයි.

● තාපක නල සහ මූලද්‍රව්‍ය: ඉහළ උෂ්ණත්ව පරිසරවල ප්‍රතිරෝධක තාපක ලෙස භාවිතා කරන අතර, නිරවද්‍ය සහ ස්ථාවර තාපයක් ලබා දෙයි.

ප්‍රධාන කාර්යභාරය: සමස්ථානික මිනිරන් සංරචක දූෂණයෙන් තොර, ස්ථායී සහ නැවත නැවත කළ හැකි තාප පිරියම් කිරීම සක්‍රීය කරයි, මාත්‍රක සක්‍රිය කිරීම සහ දෝෂ අඩු කිරීම සඳහා ඉතා වැදගත් වේ.

3. SiC එපිටැක්සියේ (4H-SiC, 6H-SiC වර්ධනය)

SiC එපිටැක්සියල් වර්ධනයට අතිශය ඉහළ උෂ්ණත්වයන් (>1500°C) සහ විඛාදන වායු පරිසරයන් අවශ්‍ය වේ. සමස්ථානික මිනිරන් නිපදවීමට භාවිතා කරයි:

● SiC-ආලේපිත සසෙප්ටර: SiC එපිටැක්සි අතරතුර උපස්ථර ආධාරකය සපයන්න, ආන්තික තත්වයන් යටතේ විශිෂ්ට තාප ව්‍යාප්තිය සහ මතුපිට ස්ථායිතාව සහතික කරයි.

● මිනිරන් පැඩල් සහ වේෆර් රඳවනයන්: භ්‍රමණය සහ වායු ප්‍රවාහය අතරතුර ආරක්ෂිත වේෆර්, ඒකාකාර වර්ධන වේගය සහ ස්ථර ඝණකම සහතික කරයි.

● ක්‍රියාවලි නල සංරචක: එපිටැක්සි ප්‍රතික්‍රියාකාරක තුළ ඇති ව්‍යුහාත්මක මිනිරන් කොටස් සංශුද්ධතාවය පවත්වා ගනිමින් ආක්‍රමණශීලී පරිසරයන්ට ඔරොත්තු දෙයි.

ප්‍රධාන කාර්යභාරය: SiC එපිටැක්සියේ සමස්ථානික මිනිරන් මාන නිරවද්‍යතාවය, රසායනික ප්‍රතිරෝධය සහ විශ්වාසදායක තාප කළමනාකරණය සපයන අතර එමඟින් වේෆර් අස්වැන්න සහ එපිටැක්සියල් පටල ඒකාකාරිත්වයට සෘජුවම බලපායි.

චීනයේ ප්‍රමුඛ පෙළේ අධි-පිරිසිදු සමස්ථානික මිනිරන් සැපයුම්කරුවෙකු ලෙස, අර්ධ සන්නායක සැකසුම් කර්මාන්තය සඳහා උසස් නිෂ්පාදන සහ තාක්ෂණික විසඳුම් සැපයීමට Semixlab කැපවී සිටී. ඕනෑම අවස්ථාවක ඔබගේ විමසීම් අපි සාදරයෙන් පිළිගන්නා අතර ඔබගේ දිගුකාලීන සහකරු වීමට අවංකවම බලාපොරොත්තු වෙමු.